小型水槽付インバータチラー RKEシリーズ（空冷・水冷）
水槽内蔵チラー
概要
チラー(冷却水循環装置)は一定温度にコントロールした水を循環することで、熱源を冷却または温調する装置です。
産業機械、医療機械、理化学機器、食品機械など、さまざまな用途に使用されます。
オリオンのチラーは、チラー本体と水槽やポンプの送水設備や制御系がワンパッケージ化（ユニット化）されており、
さまざまな用途と使用方法に対応します。（水槽無しタイプのユニットクーラーもあり）
パッケージ型チラーの導入で、工事費用の削減や省スペース化が可能です。
特長
省エネ・高精度という相反する技術を両立
インバータ圧縮機が負荷変動に応じリニアに追従することにより、最小エネルギーで高精度制御を実現しました。また、オリオン独自の容量制御により、高精度を維持しづらい低負荷時でも高精度制御を可能としました。
（モード切替により低負荷時の省エネ／高精度の選択が可能です）
最大65%の省エネが可能
省エネ重視タイプの冷凍機 ON/OFF 制御チラーと比較しても100%負荷時で30%の省エネを達成しました。また、温度安定重視タイプのホットガスバイパス制御や、比例弁PID制御チラーと比較すれば、最大で65%もの省エネが可能です。
高精度制御±0.1℃※を実現
シビアな温度管理で高精度な運転を要求されるさまざまな用途に対応可能。
例えば、精密加工用レーザー・半導体製造装置・各種分析装置等と格段に用途が広がりました。
※負荷及び周囲温度安定時。
ワイドレンジを実現
液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応。配管の結露防止等高温運転が可能です。使用可能な周囲温度範囲※を-5℃～+43℃（水冷式は+2℃～）に拡大。より過酷な環境での使用が可能となりました。
※周囲温度が5℃以下の場合、機外配管には凍結対策が必要となります。
扱いやすさをさらに追求
操作プレートを斜めに配置し、操作性及び視野性をUP!
水槽を上部に配置し、給水や水槽内の水質確認・清掃が非常に簡単！
凝縮器用ダストフィルターも容易にワンタッチで脱着可能（空冷のみ）
用途
ファイバーレーザ ダイオードレーザの発振部および光学系の冷却
MRI ヘリウム冷凍機冷却および傾斜磁場コイルの冷却
露光装置 露光ステージ（クールプレート）に ±0.1℃ の恒温水を供給
高周波誘導加熱装置 加熱コイルの冷却および高周波電源の冷却
プラズマ溶接機 電源、溶接トーチの冷却
ICP 分析装置 試験溶液等の冷却を効率よく行います